俄亥俄州索倫市 – （2020 年 2 月 1 日） – 流體系統(tǒng)產(chǎn)品、組件和相關(guān)服務(wù)的領(lǐng)先解決方案提供商Swagelok宣布發(fā)布一款適用于高流量應(yīng)用的新型超高純 (UHP) 閥門 ALD20。自將原子層沉積 (ALD) 閥門技術(shù)推向市場以來，Swagelok一直與半導(dǎo)體工具制造商和芯片制造商合作以提供所需的性能，從而與快速變化的工藝要求保持同步。新型 ALD20 閥門是這種合作的最新成果，因此，具有遠見卓識的工藝設(shè)計者可以靈活地對低蒸氣壓化學(xué)材料進行試驗，而這些材料可能是保持明天競爭優(yōu)勢的關(guān)鍵。
ALD20 正在申請專利的設(shè)計所提供的流量系數(shù)是當今標準 ALD 閥門技術(shù)所能達到的兩到三倍，從而最大限度地提高了生產(chǎn)工藝效率和沉積一致性。它可以在與現(xiàn)有 ALD 閥相同的占用空間 (1.5 in.) 下提供高達 1.2 Cv 的流量，從而使某些用戶無需重裝現(xiàn)有設(shè)備或作出其他工藝變更即可提高產(chǎn)量。另一款具有稍大占用空間寬度 (1.75 in.) 的標準版 ALD20 閥門可提供高達 1.7 Cv 的更大流量。還提供定制設(shè)置的流量系數(shù)。
ALD20 專為實現(xiàn)峰值工藝一致性而設(shè)計，可完全浸入 50°F (10°C) 至 392oF (200oC)的氣箱中，從而增強了熱穩(wěn)定性和沉積均勻性。其閥體還由 316L VIM-VAR 不銹鋼或 哈式22 合金制成的閥體-具有更高的耐腐蝕能力，可以承受腐蝕性介質(zhì)-并采用高度拋光的 5 μin 波紋管。Ra 光潔度支持清潔作業(yè)，可實現(xiàn)長期的工藝完整性。
“ALD20 是對半導(dǎo)體行業(yè)迅猛發(fā)展的需求的直接響應(yīng)”，Swagelok半導(dǎo)體營銷總監(jiān) Garrick Joseph 表示。“通過與行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者的合作以及流體系統(tǒng)工程專業(yè)知識的應(yīng)用，我們很榮幸推出了一款可使客戶有效使用前驅(qū)體氣體化學(xué)物質(zhì)的產(chǎn)品，以前，人們認為這些物質(zhì)的應(yīng)用難度太大或成本過高，但其對于下一代芯片技術(shù)的開發(fā)可能極為關(guān)鍵�！�
ALD20 現(xiàn)已提供帶有兩個或三個端口的模塊化表面安裝配置、帶卡套管對焊和外螺紋或內(nèi)螺紋 VCR® 面密封端接的直通配置以及多孔口閥配置，以優(yōu)化現(xiàn)有或新系統(tǒng)中的流路。高溫光學(xué)位置傳感器同樣可作為附加組件提供。