| 生產(chǎn)掩膜板廠家宏誠 |
| 聯(lián)系人:錢云蕾 (小姐) | 手機(jī):15112732962 |
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工藝介紹:掩膜版(Photomask),又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版等,是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版,由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形,并通過曝光將圖形轉(zhuǎn)印到產(chǎn)品基板上。掩膜版是芯片制造過程中的圖形“底片”,用于轉(zhuǎn)移高精密電路設(shè)計(jì),承載了圖形設(shè)計(jì)和工藝技術(shù)等知識產(chǎn)權(quán)信息。掩模版用于芯片的批量生產(chǎn),是下游生產(chǎn)流程銜接的關(guān)鍵部分,是芯片精度和質(zhì)量的決定因素之一。 工藝能力: 電子束光刻加工(EBL):最小線寬50nm,精度可達(dá)10。 步進(jìn)式光刻加工:stepper i7/i10/i12,最小線寬350nm,曝光誤差±0.1um。接觸、接近式光刻加工:MA6/BA6光刻機(jī),最小線寬1um,曝光誤差±0.5um紫外光刻加工、無掩模光刻加工、雙面光刻加工,對準(zhǔn)套刻尺寸:8’、6’、4’、2’以及不規(guī)則小片 應(yīng)用材料:玻璃 石英 陶瓷 菲林 技術(shù)應(yīng)用:光刻技術(shù)主要應(yīng)用于半導(dǎo)體器件、光刻版加工、集成電路制造過程中。
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