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品名：靶材，又名表面工程用多弧靶

產(chǎn)品性能：

鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。
簡單說的話，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時，會產(chǎn)生不同的殺傷破壞效應。
例如：蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜、鋁膜等。
更換不同的靶材（如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。

靶材的主要性能要求:

純度

純度是靶材的主要性能指標之一，因為靶材的純度對薄膜的性能影響很大。
不過在實際應用中，對靶材的純度要求也不盡相同。
例如，隨著微電子行業(yè)的迅速發(fā)展，硅片尺寸由6”, 8“發(fā)展到12”, 而布線寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材純度可以滿足0.35umIC的工藝要求，而制備0.18um線條對靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。

雜質(zhì)含量

靶材固體中的雜質(zhì)和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。
不同用途的靶材對不同雜質(zhì)含量的要求也不同。
例如，半導體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材，對堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。

密度

為了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射薄膜的性能，通常要求靶材具有較高的密度。
靶材的密度不僅影響濺射速率，還影響著薄膜的電學和光學性能。
靶材密度越高，薄膜的性能越好。
此外，提高靶材的密度和強度使靶材能更好地承受濺射過程中的熱應力。
密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標之一。

晶粒尺寸及晶粒尺寸分布

通常靶材為多晶結(jié)構(gòu)，晶粒大小可由微米到毫米量級。
對于同一種靶材，晶粒細小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快；而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。

應用領(lǐng)域：工具鍍膜、裝飾鍍膜、不銹鋼、陶瓷鍍膜，電子顯示屏鍍膜。