| 供應(yīng)供應(yīng)進(jìn)口 rf磁控濺射及刻蝕處理設(shè)備 用于光學(xué)薄膜/半導(dǎo)體晶圓批量生產(chǎn) |
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價(jià)格： 元(人民幣) | 產(chǎn)地：本地 |
| 最少起訂量：1 | 發(fā)貨地：本地至全國(guó) | |
| 上架時(shí)間：2019-05-06 23:36:33 | 瀏覽量：283 | |
上海儀恩埃半導(dǎo)體設(shè)備有限公司
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| 經(jīng)營(yíng)模式：其他 | 公司類型：否 | |
| 所屬行業(yè)：分立半導(dǎo)體 | 主要客戶：全國(guó) | |
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品牌p/e 型號(hào)440 加工定制否 類型無(wú) 外形尺寸無(wú)mm 重量無(wú)kg 產(chǎn)品用途光學(xué)薄膜量產(chǎn)、半導(dǎo)體晶圓生產(chǎn)、大尺寸晶圓處理 規(guī)格無(wú) 展開(kāi) 供應(yīng)供應(yīng)進(jìn)口 rf磁控濺射及刻蝕處理設(shè)備 用于光學(xué)薄膜/半導(dǎo)體晶圓批量生產(chǎn) 點(diǎn)我去除廣告 射頻等離子設(shè)備：濺射沉積和刻蝕處理,設(shè)計(jì)用于批量生產(chǎn)高產(chǎn)出 load lock:抽氣能力極強(qiáng)，打開(kāi)腔體裝樣不會(huì)影響沉積腔體真空度 沉積薄膜范圍：可以沉積幾乎所有薄膜及進(jìn)行刻蝕處理 多功能模式：dc磁控濺射、rf磁控濺射、rf電極濺射、偏壓濺射、 反應(yīng)濺射、濺射刻蝕、等離子刻蝕、反應(yīng)離子刻蝕 生產(chǎn)能力強(qiáng)：al沉積速率高達(dá)2000?/分鐘，生產(chǎn)超過(guò)150個(gè)3英寸晶圓/小時(shí) 高產(chǎn)出：旋轉(zhuǎn)襯底用于多程沉積，保證高均勻性和每批次可重復(fù)性。 其他特點(diǎn)： 快速裝載，快速抽真空，閉環(huán)氦低溫泵。 特殊的機(jī)械設(shè)計(jì)專門用于***小化污點(diǎn)和小孔等缺陷的產(chǎn)生。 通過(guò)易操作的裝載托盤設(shè)計(jì)降低晶圓破損率。 可重復(fù)性高品質(zhì)薄膜通過(guò)干凈的高真空環(huán)境來(lái)保證。 設(shè)備用于生產(chǎn)高品質(zhì)al, al合金, pt，硅化物，tiw，niau，氮化硅，二氧化硅，硅鉻化合物 應(yīng)用：光學(xué)薄膜、mems、半導(dǎo)體晶圓處理、金屬膜、非金屬膜等。 |
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