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實(shí)驗(yàn)室用低壓化學(xué)氣相沉積設(shè)備

	價(jià)格：元(人民幣)	產(chǎn)地：本地
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	上架時(shí)間：2022-07-31 03:45:44	瀏覽量：56
	北京朗銘潤(rùn)德光電科技有限公司
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TYTAN 實(shí)驗(yàn)室用低壓化學(xué)氣相沉積設(shè)備是專為氧化, 擴(kuò)散和低壓化學(xué)氣相沉積應(yīng)用而設(shè)計(jì)的。與其它相同產(chǎn)能的常規(guī)爐系統(tǒng)相比，它具有結(jié)構(gòu)緊湊，占地空間小和省電等優(yōu)勢(shì)。

詳情介紹

LPCVD/常壓CVD 實(shí)驗(yàn)室用低壓化學(xué)氣相沉積設(shè)備詳情：

一、關(guān)鍵設(shè)計(jì)和性能特性包括:

創(chuàng)新性熱能設(shè)計(jì)

占地空間小

優(yōu)良的工藝均勻性

設(shè)備開機(jī)率優(yōu)于 95%

龐大的客戶網(wǎng)絡(luò)

專家服務(wù)

節(jié)省(50%)電能和氣體消耗

便于保養(yǎng)和服務(wù)

二、常壓工藝：

氧化工藝（濕法，干法）

固態(tài)源擴(kuò)散（BN,P2O5）

液態(tài)源擴(kuò)散（POCl3,BBr3）

退火

納米材料

燒結(jié)+合金

三、低壓化學(xué)氣相沉積和工藝：

摻雜多晶硅和非晶硅 LPCVD

多晶硅 LPCVD（使用硅烷或乙硅烷）

低溫氧化硅，摻雜性低溫氧化硅，硼磷硅玻璃，硼硅玻璃和磷硅玻璃LPCVD

高溫氧化硅LPCVD

TEOS氧化硅LPCVD

氮化硅LPCVD（低應(yīng)力型，標(biāo)準(zhǔn)型）

硅鍺（Si-Ge）LPCVD

摻氧半絕緣多晶硅，碳化硅

外延硅

納米材料LPCVD

四、關(guān)鍵設(shè)計(jì)和性能特點(diǎn)：

創(chuàng)新性熱能設(shè)計(jì)

占地空間小

優(yōu)良的工藝均勻性

設(shè)備開機(jī)率優(yōu)于95%

龐大的客戶網(wǎng)絡(luò)

專家服務(wù)

節(jié)�。�50%）電能和氣體消耗

便于保養(yǎng)和服務(wù)

TYTAN爐系統(tǒng)對(duì)照表：

爐系統(tǒng)型號(hào)	1600	1800	3600	3800	4600
襯底尺寸	6’’	8’’	6’’	8’’	6’’
爐管數(shù)量	1 TUBE	1 TUBE	≤3 TUBES	≤3 TUBES	≤4 TUBES
單管產(chǎn)能	100 ATM 50 LPCVD	100 ATM 50 LPCVD	100 ATM 50 LPCVD	100 ATM 50 LPCVD	100 ATM 50 LPCVD
恒溫區(qū)長(zhǎng)度	18’’/457 mm	18’’/457 mm	18’’/457 mm	18’’/457 mm	18’’/457 mm
設(shè)備尺寸 (長(zhǎng)度, 高度, 寬度)	L 63’’/1600 mm	L 63’’/1600 mm	L 126’’/3200 mm	L 134’’/3404 mm	L 127’’/3226 mm
	H 54’’/1372mm	H 54’’/1372mm	H 69’’/1753mm	H 82’’/2083mm	H 82’’/2083mm
	D 30’’/762 mm	D 30’’/762 mm	D 30’’/762 mm	D 30’’/762 mm	D 30’’/762 mm
*大消耗電功率	18 KVA	28 KVA	40 KVA	45 KVA	50 KVA

實(shí)驗(yàn)室用低壓化學(xué)氣相沉積設(shè)備

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