| 實驗室用磁控濺射設(shè)備 |
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價格： 元(人民幣) | 產(chǎn)地：本地 |
| 最少起訂量：1 | 發(fā)貨地：本地至全國 | |
| 上架時間：2022-07-31 03:45:45 | 瀏覽量：64 | |
北京朗銘潤德光電科技有限公司
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產(chǎn)品簡介
實驗室用磁控濺射設(shè)備是一款特殊設(shè)計，結(jié)構(gòu)緊湊的濺射臺，F(xiàn)HR.Star.100-TetraCo用于晶片類基底或基底承載器的工藝處理。 詳情介紹  一、設(shè)備介紹實驗室用磁控濺射設(shè)備 是一款特殊設(shè)計 , 結(jié)構(gòu)緊湊的濺射臺，F(xiàn)HR.Star.100-TetraCo用于晶片類基底或基底承載器的工藝處理。該設(shè)備包含一個上料盒式進樣室, 一個處理腔室和一個由3個濺射源和1個預(yù)清洗刻蝕器的工藝腔室，全部遵照共焦幾何設(shè)計。鍍膜工藝通過不加熱的背板盛放基底承載器并旋轉(zhuǎn)實現(xiàn)。濺射源安裝在直徑100mm的陰極和擋板之間，擋板為氣動控制，可實現(xiàn)依次濺射或共濺射鍍膜。另外，每個濺射源可軸向和水平方向調(diào)節(jié)，因此，可實現(xiàn)不同高度基底多種靶基距范圍的鍍膜工藝。機械手通過上料盒升降裝置的上下移動傳輸基底承載器；椎囊来五兡すに囃ㄟ^自動編程自動得以實現(xiàn)。 二、適用工藝 1.反應(yīng)和無反應(yīng)磁控濺射(直流方式) 2.預(yù)處理(例如，等離子刻蝕) 3.對旋轉(zhuǎn)基底承載器的共濺射 三、客戶優(yōu)勢 1.結(jié)構(gòu)緊湊，占用空間少 2.潔凈室內(nèi)使用設(shè)備，可通過潔凈室隔離墻實現(xiàn) 3.設(shè)備維護高效便捷 4.投資和運行成本具吸引力 四、特殊性能 1.旋轉(zhuǎn)式基底承載器 2.靶基距可調(diào) 3.全自動工藝控制 4.CE 認(rèn)證 5.德國制造 五、可選方案 1.中頻濺射 2.射頻濺射 3.基底承載器加熱 (T < 500 °C) 4.標(biāo)準(zhǔn)晶片上料盒 5.定制上料盒式進樣室 六、典型應(yīng)用 1.MEMS和傳感器領(lǐng)域多層膜 2.微電和光電領(lǐng)域功能膜 實驗室用磁控濺射設(shè)備 
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