| GaAs/GaN用快速退火爐 |
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價格： 元(人民幣) | 產(chǎn)地：本地 |
| 最少起訂量：1 | 發(fā)貨地：本地至全國 | |
| 上架時間：2022-07-31 03:45:49 | 瀏覽量：191 | |
北京朗銘潤德光電科技有限公司
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| 經(jīng)營模式：其他 | 公司類型：[db:公司類型] | |
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產(chǎn)品簡介
GaAs/GaN用快速退火爐又名RTP設備，此設備為型號AS-One系列，分為可以處理4“基片的AS-ONE100以及處理6“基片的AS-ONE150，更小的基片可使用基片托。主要用于大學，研究實驗室以及年產(chǎn)量高達10000晶圓的小規(guī)模生產(chǎn)。 詳情介紹 GaAs/GaN用快速退火爐 北京朗銘潤德光電科技有限公司是一家在半導體微電子、高精密光學鍍膜領域，光伏、光熱、鋰電池等新能源領域以及窗膜、汽車膜、柔性電路板等行業(yè)提供專業(yè)相關工藝設備的代理公司。從2006年起與德國著名微電子設備專業(yè)廠家FHR公司開始合作，并于2008年成為其中國區(qū)的代理機構。通過我們的合作，使 FHR的產(chǎn)品逐漸進入中國，并成為國內(nèi)鍍膜設備的供貨商。 我們于 2010 年在北京石景山中關村高科技園區(qū)成立了專業(yè)代理國外微電子半導體及相關設備的北京朗銘潤德光電科技有限公司，并與*技術供貨商建立合作關系，為公司全面化運轉及操作奠定了良好開 1、設備尺寸詳情： AS-0NE100：530*800*1425mm AS-0NE150：530*800*1425mm 2、型號介紹： 不銹鋼水冷壁腔室壁真空快速退火爐(快速熱處理爐)，具有4英寸(100 mm) 和 6英寸 (150 mm) 兩種版本 3、性能和特征： 可處理4-inch 及以下和 6-inch 及以下的晶圓，可適用大范圍類型的基片：硅和化合物半導體晶圓，GaN /藍寶石和碳化硅晶圓，多晶硅晶圓，玻璃，金屬，高分子聚合物，石墨和碳化硅托盤等等。 設備應用具有：硒化、硫化、接觸退火，注入退火，RTO (快速熱氧化) ，RTN (快速熱氮化) ，硅平滑，擴散，致密化和結晶化，石墨烯CVD，碳納米管等。 不銹鋼水冷腔壁技術，高工藝復現(xiàn)性，超潔凈及無污染環(huán)境 高冷卻速率，低記憶效應 具有真空能力，可選配分子泵 溫度控制：高溫計和熱電偶控制+快速數(shù)字PID溫度控制器 邊緣高溫計視口，確保用于化合物半導體和小型樣品 基片托的溫度控制GaAs/GaN用快速退火爐 AS-0NE100：530*800*1425mm
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