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天津瑞利光電科技有限公司優(yōu)勢經(jīng)銷英國ANDOR sCMOS 相機(jī)Marana-X

產(chǎn)品型號：Marana-X

產(chǎn)品介紹

Marana-X 是 Andor 為直接 EUV 和軟 X 射線應(yīng)用量身定制的開創(chuàng)性 sCMOS 平臺。手工打造，提供好的性能和多功能性 Marana-X 在不到 50 毫秒的時(shí)間內(nèi)讀取 4.2 兆像素高分辨率陣列，同時(shí)保持低的讀取噪聲；比類似分辨率的 CCD 探測器快數(shù)百倍。

與現(xiàn)有的 CCD 相比，新型 Marana-X sCMOS 在 EUV-1 keV 能量范圍內(nèi)具有更高的量子效率。 Marana-X 、的量子效率與其CMOS 技術(shù)相得益彰，可通過 74 fps 全幀快速實(shí)現(xiàn)實(shí)驗(yàn)時(shí)間的更小化和更大的數(shù)據(jù)吞吐量。

性能特點(diǎn)

l 高達(dá) 99% 的 QE 和低噪聲：適合光不足測量的max信噪比。 更快地實(shí)現(xiàn)高對比度。

l 真空冷卻至 -45℃：非常微弱的信號需要更低的本底噪聲和更長的曝光時(shí)間：不要受到相機(jī)熱噪聲的限制

l 4.2 百萬像素：高像素分辨率，在擴(kuò)展視野范圍內(nèi)保持圖像清晰度。

l 未鍍膜的背照式 sCMOS：Marana-X 采用了無涂層背照式 sCMOS 傳感器，可實(shí)現(xiàn)EUV - 軟 X 射線檢測。

l 擴(kuò)展動(dòng)態(tài)范圍 (EDR) 模式：在整個(gè)動(dòng)態(tài)范圍內(nèi)“一次定量”，在同一圖像中捕獲高強(qiáng)度和低強(qiáng)度圖像。

l 99.7% 線性度：在整個(gè)信號范圍內(nèi)的定量精度。

l 標(biāo)配風(fēng)扇和液體冷卻：液體冷卻可實(shí)現(xiàn)更大靈敏度

選型指南

可選功能與配件

技術(shù)參數(shù)

傳感器類型：背照式科學(xué) CMOS

陣列尺寸：2048 (W) x 2048 (H)

4.2 百萬像素

像素尺寸：6.5 x 6.5 μm

圖像區(qū)：13.3 毫米 x 13.3 毫米

（對角線 18.8 毫米）

讀出模式：滾動(dòng)快門

像素讀出率： 310 MHz（快速高動(dòng)態(tài)范圍模式，16 位）

180 MHz（低噪聲模式，12 位）

 量子效率：高達(dá) 99%

讀取噪聲 (e-) 中值：1.6 e-（快速高動(dòng)態(tài)范圍模式，16 位）

1.2 電子-（低噪聲模式，12 位）

傳感器工作溫度

風(fēng)冷：-25°C（max.30°C 環(huán)境溫度）

水冷/液冷：-45°C（@16°C 水）

暗電流

風(fēng)冷 (@-25°C) ：0.15 e-/像素

水冷/液冷 (@ -45°C) ：0.10 e-/像素

有效區(qū)域像素井深度：

55 000 e-（快速高動(dòng)態(tài)范圍模式，16 位）

1800 e-（低噪聲模式，12 位，位深度受限）

動(dòng)態(tài)范圍：34 000:1（快速高動(dòng)態(tài)范圍模式，16 位）

數(shù)據(jù)范圍：16 位（快速高動(dòng)態(tài)范圍模式）

12 位（低噪聲模式）

線性：> 99.7%

PRNU：< 0.5% (@半光范圍)

感興趣區(qū)域 (ROI) ：用戶可定義，1 像素粒度，

Min.尺寸 9（寬）x 1（高）

預(yù)定義 ROI：1608 x 1608、1200 x 1200、1024×1024、512×512、128×128

像素合并（在 FPGA 上）：2 x 2、3 x 3、4 x 4、8 x 8（也提供用戶可定義的合并）

真空兼容性：>10^-8 mbar

I/O

O：Fire Row 1, Fire Row n, Fire All, Fire Any, Arm

I：外部

觸發(fā)模式：內(nèi)部、外部、外部啟動(dòng)、外部曝光、軟件

軟件曝光事件：開始曝光 - 結(jié)束曝光（第 1 行），開始曝光 - 結(jié)束曝光（第 n 行）

圖像時(shí)間戳精度： 25 ns

PC 接口：USB 3.0和 CoaXPress

安裝法蘭：DN100CF (ConFlat) 6” O.D.固定法蘭提供 M8 或 5/16 UNC 螺紋孔

產(chǎn)品尺寸

產(chǎn)品應(yīng)用

原位射線照相

斷層掃描

光譜學(xué)

高光譜成像

HHG 源表征

EUV 投影儀

EUV 光刻

   天津瑞利光電科技有限公司于2016年成立，坐落于渤海之濱天津，地理位置得天獨(dú)厚，交通運(yùn)輸便利，進(jìn)出口貿(mào)易發(fā)達(dá)。憑借著歐洲的采購中心，我們始終為客戶提供歐美工業(yè)技術(shù)、高新科技等發(fā)達(dá)國的光電設(shè)備、光學(xué)儀器、機(jī)電設(shè)備及配件、電氣成套設(shè)備、工業(yè)自動(dòng)化控制設(shè)備產(chǎn)品，同時(shí)擁有多個(gè)品牌的授權(quán)經(jīng)銷和代理權(quán)。

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