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產(chǎn)品概述：
諾泰高真空PECVD系統(tǒng)是由管式爐，真空系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、射頻電源系統(tǒng)等組成。系統(tǒng)主要應(yīng)用于金屬薄膜，陶瓷薄膜等，復合薄膜，石墨烯等生長。PECVD系統(tǒng)增加功能容易，可擴展等離子清洗刻蝕等功能，PECVD系統(tǒng)薄膜沉積速率高、均勻性好、一致性和穩(wěn)定性高等優(yōu)點。

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高真空PECVD系統(tǒng)主要特點：

1.通過射頻電源把石英真空室內(nèi)的氣體變?yōu)殡x子態(tài)。

2.PECVD比普通CVD進行化學氣相沉積所需的溫度更低。

3.可以通過射頻電源的頻率來控制所沉積薄膜的應(yīng)力大小。

4.PECVD比普通CVD進行化學氣相沉積速率高、均勻性好、一致性和穩(wěn)定性高。

5.廣泛應(yīng)用于：各種薄膜的生長，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和無定型硅(a-Si:H) 等。