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PLC技術資料
    歐姆龍成功事例 | ecvd設備腔體的溫度均衡控制方案
    發(fā)布者:  發(fā)布時間:2025/10/14 13:53:47

    應用介紹

    【行業(yè)】pv

    【設備】pecvd

    【用途】在太陽能電池表面沉積薄膜,提高電池的效率和性能

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    應用場景

    單臺設備分為5個爐管,每個爐管分為6個溫區(qū),通過串級控制實現(xiàn)對腔體內部的控溫。

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    解決課題

    1、關乎鍍膜效率的核心數(shù)據(jù):升溫和回溫速度較慢,從0度升到目標500度需要40分鐘以上;加入氣體以及硅片回溫到目標溫度需要15分鐘。

    2、溫控精度影響鍍膜的均勻度以及電池效率,目前設備只能達到±5℃。

    價值提案

    核心產(chǎn)品:溫度控制單元 nx-tc

    ■自帶外部干擾抑制功能,能夠針對可預測的外部干擾預先抑制溫度變化。實現(xiàn)升溫時間(40min→35min)與回溫時間(15min→13min)的縮短。

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    ■啟動時自動調整pid,有效削減繁瑣調整的工時。溫控穩(wěn)定( ±5℃ → ±3℃)

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    相關產(chǎn)品

    nx系列 溫度控制單元 nx-tc

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    https://www.fa.omron.com.cn/products/family/3699/

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